「セミコン・ジャパン2009」(12月2~4日,幕張メッセ)の高等専門学校(高専)特設ブース「The高専@SEMICON Japan 2009」に,三つの研究室が大挙して参加し,盛りだくさんの成果を発表したのが,高知工業高等専門学校だ。昨年も参加した池上研究室に加え,芝研究室,山口研究室が新たに参加した。その内容は,半導体プロセス,ユーザー・インタフェース,ソフトウエアといろいろだ。各研究室が発表した成果を順に紹介する。 レーザー蒸着,直接プリント,水中レーザー加工の成果を披露 電気情報工学科准教授の池上浩先生が率いる池上研究室は,(1)近接レーザー蒸着,(2)Si薄膜直接プリント,(3)水中レーザー加工という,3種類の多結晶Si薄膜直接パターン形成技術の研究成果を展示した。 (1)の近接レーザー蒸着法は,Si基板表面の厚さ50nmのアモルファスSi薄膜にレーザーを照射し,アモルファスSi
![第4回:高知高専,Si薄膜の転写/印刷技術や半球型インタフェースなどを展示](https://cdn-ak-scissors.b.st-hatena.com/image/square/bed39b5962a5d552c95b6d796db8f55e72d32943/height=288;version=1;width=512/https%3A%2F%2Fxtech.nikkei.com%2Fimages%2Fn%2Fxtech%2F2020%2Fogp_nikkeixtech_hexagon.jpg%3F20220512)