古庄 英一 / 「第4四半期の受注額は20億円台に戻す」――。化合物半導体向けが軸の電子部品製造装置メーカー、サムコ(6387)が来2024年7月期に2桁後半の利益成長を継続するため、新規受注積み上げの正念場を迎えて
SEMIは5月2日(米国時間)、SEMI Silicon Manufacturers Group(SMG)によるシリコンウェハ業界の分析結果をもとに、2023年第1四半期のシリコンウェハ出荷面積が前四半期比9.0%減、前年同期比11.3%減の32億6500万平方インチとなったと発表した。 2023年初めからの半導体需要の軟化が反映された結果だとSEMIでは説明しており、中でもメモリおよびコンシューマ製品向けの需要の落ち込みが激しいとする一方で、産業向けならびに車載半導体向けの需要は安定しているともしている。 半導体用シリコンウェハの出荷面積推移 (出所:SEMI) なお、この統計で用いられている数値はウェハメーカー各社よりエンドユーザーに出荷されたバージンテストウェハ、エピタキシャルウェハを含むポリッシュドウェハとノンポリッシュドウェーハを集計したもので、半導体用途以外のウェハは含まれてい
¹CVD装置とは薄膜(はくまく)形成装置の一つで、半導体の表面に10nmから1000nm程度の薄い膜を堆積する装置です。 薄膜の原料としてさまざまな種類のガスが使用されていますが、薄膜形成にはこれらのガスに化学反応を起こさせる必要があり、その手段として「熱」「光」「プラズマ」などが利用されています。サムコではプラズマを利用したCVD装置を製造しており、熱や光と違って、比較的低温で細い溝の中に成膜することが可能なため、オプトエレクトロニクスや電子部品分野で数多くご使用いただいております。 薄膜を形成することで、半導体を水やほこりなどから守ります。また、電気を通さない絶縁膜を形成したりします。薄膜の防水性や絶縁性は、半導体の特性や安全性に大きな影響を与えるため、薄膜の品質は非常に重要なものであると言えます。 ¹ CVDとはChemical Vapor Depositionを省略した言葉で、日本
半導体製造装置メーカーのサムコは、SiCやGaNを材料とした次世代パワー半導体デバイスにおけるゲート酸化膜形成の研究開発向けとして100~200mmウェハ対応枚葉式プラズマALD(原子層堆積)装置「AD-800LP」を開発、販売を開始したことを発表した。 サムコが開発したSiC/GaNパワー半導体研究開発用プラズマALD装置 同装置は、従来の熱による成膜だけでなく、プラズマ生成機構を追加することでさまざまな条件での多様な成膜を可能とした多目的に使える研究開発装置という位置づけ。2015年に販売を開始した熱ALD装置を改良して、自社開発した独自のトルネードICP方式を採用することでプラズマ生成を可能にしたという。 ALD装置は、Si半導体以外の電子デバイス分野でも市場拡大が進んでおり、仏Yole Groupによると、Si半導体以外の基板向けALD市場は今後年平均12%で成長し、2026年には
「世間が無理だと言っていることほど、案外芽が出るかもしれない。他の人間、あるいは他社とどのように違うのか、追求するのが成功のカギだ」。 辻理会長兼最高経営責任者(CEO)が掲げるこの持論が、独自路線を貫く半導体製造装置メーカーであるサムコの原点だ。一般的なシリコン製の半導体ではなく、加工が困難とされる炭化ケイ素(SiC)などの化合物半導体に特化することで業界内で存在感を発揮し、成長してきた。その持論をひもとくと、きっかけは創業までの経験にあった。 1970年代後半、辻氏は米航空宇宙局(NASA)のエイムズ研究所(カリフォルニア州)でプラズマや薄膜技術に関する研究をしていた。すぐそばには起業家の聖地シリコンバレー。大学教授が研究のかたわら、専門分野の知識をいかして起業する姿などを見て「ハングリー精神や人と違うことをする気風に大きな影響を受けた」。 帰国後、大手電機メーカーから、非晶質(アモル
サムコ <6387> が6月11日大引け後(15:30)に決算を発表。20年7月期第3四半期累計(19年8月-20年4月)の経常利益(非連結)は前年同期比2.1倍の6億3400万円に急拡大した。 併せて、通期の同利益を従来予想の7億2000万円→8億5000万円(前期は3億0500万円)に18.1%上方修正し、増益率が2.4倍→2.8倍に拡大する見通しとなった。 会社側が発表した上方修正後の通期計画に基づいて、当社が試算した2-7月期(下期)の経常利益も従来予想の2億4900万円→3億7900万円(前年同期は4300万円)に52.2%増額し、増益率が5.8倍→8.8倍に拡大する計算になる。 業績好調に伴い、期末一括配当を従来計画の20円→25円(前期は20円)に増額修正した。 直近3ヵ月の実績である2-4月期(3Q)の経常利益は前年同期比3.7倍の1億6300万円に急拡大し、売上営業利益率
サムコ <6387> が3月2日大引け後(15:30)に業績修正を発表。20年7月期第2四半期累計(19年8月-20年1月)の経常利益(非連結)を従来予想の3.2億円→4.7億円(前年同期は2.6億円)に47.2%上方修正し、増益率が22.1%増→79.8%増に拡大し、19期ぶりに上期の過去最高益を更新する見通しとなった。 なお、通期の経常利益は従来予想の7.2億円(前期は3億円)を据え置いた。 株探ニュース 会社側からの【修正の理由】 当第2四半期累計期間は、売上高は若干の未達となりましたが、各利益につきましては海外市場にて収益性の高い製品の販売があったことに加え、工場の安定稼働による生産性向上や経費の増加抑制努力により各種経費が想定より低めに推移したことで、それぞれ前回予想を上回る見込みとなりました。 なお、通期の業績予想につきましては、前回予想から変更いたしません。今後、業績予»続
事業領域 当社は、半導体等電子部品製造装置の製造及び販売を行っております。当社の属する半導体製造装置業界には、シリコンを材料とした半導体製造装置を販売する企業は多く存在しますが、当社は全半導体製造装置市場の数パーセント程度の市場ですが成長が期待できる窒化ガリウム(GaN)、ガリウムヒ素(GaAs)や炭化シリコン(SiC)などの化合物を主体材料とした化合物半導体製造装置に特化しております。 当社は、1979年9月の設立以来、「薄膜」を中核技術とした、材料開発と最先端のプロセステクノロジーの開発に注力してまいりました。化合物半導体には、シリコンにはない優れた特性が有り、その「薄膜」用途は環境分野や医療分野など将来的にも無限の可能性を秘めております。 グローバルニッチ市場のリーディングカンパニー 当社製品の第1号が米国向けの販売であったことに代表されるように、当社の市場は早くから海外を対象とし、
サムコは、「薄膜技術で世界の産業科学に貢献する」ことを経営理念とし、創造性の重視、直販体制の採用、事業が社会に果たす役割の積極的な認識を経営方針に掲げ、事業を展開しております。 化合物半導体を中心としたオプトエレクトロニクス分野や高周波デバイス分野、電子部品分野を中心に、生産用途向け装置の販売をさらに拡大し、中国市場を始めとする海外市場への積極的展開を進めております。 また、新事業の創造も行っており、CVD装置、エッチング装置、洗浄装置といったサムコの三大製品群に次ぐライフサイエンス分野の"第四の柱"を確立しようとしております。 京都の研究開発センターと米国シリコンバレーのオプトフィルムス研究所で研究開発を行っております。この中から、薄膜事業に関連する新事業、新分野をいち早く立ち上げさらに社会に貢献していきたいと考えております。
Kyoto to the world 京都から世界の最先端企業へ サムコは薄膜技術で世界の産業科学に貢献します 私たちの快適な暮らしを支える半導体や電子部品。あまり認識されてないかもしれませんが、非常に身近な存在です。サムコは、炭化ケイ素(SiC)や窒化ガリウム(GaN)を用いた次世代パワーデバイス分野、半導体レーザー、LEDなどのオプトエレクトロニクス分野、高周波フィルタ、コンデンサなどの電子部品分野へ、最先端のCVD装置、ドライエッチング装置、ドライ洗浄装置を提供しています。
本社 〒612-8443 京都市伏見区竹田藁屋町36 TEL:075-621-7841 FAX:075-621-0936 Googlemap 本社周辺のアクセスマップ アクセス方法 電車をご利用の場合 バスをご利用の場合 京都駅~京都パルスプラザ・京セラ前直通バス時刻表 研究開発センター 〒612-8444 京都市伏見区竹田田中宮町94 TEL:075-623-0365 FAX:075-623-0373 Googlemap 製品サービスセンター 〒612-8443 京都市伏見区竹田藁屋町66 TEL:075-621-3600 Googlemap 生産技術研究棟 〒612-8450 京都市伏見区竹田鳥羽殿町3 TEL:075-621-7840 FAX:075-623-1071 Googlemap 第二研究開発棟 〒612-8443 京都市伏見区竹田藁屋町67 TEL:075-623-3660
こちらは株探プレミアム 「日本株プラン」 または「日米セットプラン」限定コンテンツ です。プランをご契約して見ることができます。
リリース、障害情報などのサービスのお知らせ
最新の人気エントリーの配信
処理を実行中です
j次のブックマーク
k前のブックマーク
lあとで読む
eコメント一覧を開く
oページを開く