シリコン単結晶清浄表面作製技術

＊＊＊＊＊初心者のためのシリコン単結晶清浄表面作製技術＊＊＊＊＊ 本稿は［分子科学研究所 技術課活動報告 Kanae 4、7-12 (1995).］に掲載した記事を若干書き直したものです。図はpdf版をご覧ください。まだ更新していない点がありますので、詳しく知りたい方は間瀬までお問い合わせください。 １．はじめに 通電加熱方式によるシリコン単結晶清浄表面作製技術を紹介します。読者としては、やる気と時間は十分あるけれども、経験と研究費は乏しい若手研究者を対象としています。また、ここに述べるシリコン清浄表面とは超高真空（～1×10^-10^Torr）中で作製する不純物濃度１％以下程度の表面です。微量の不純物は影響しない研究なら十分通用します。より詳しくシリコン清浄表面作製技術を学びたい方は文献［１－３］を参照ください。また、超高真空技術そのものに関心のある方は文献［３－６］をお読みください。通

[takuyanoguchi]

基本的な真空と表面科学の技術が載っています。入門者が読むのにもよさそう。