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フォトマスクとは /フォトマスクの用途・製造工程 / 日本フイルコン
フォトマスクは、 「電子デバイス(半導体)」、「ディスプレイ」、「プリント基板」 、 「マイクロマシ... フォトマスクは、 「電子デバイス(半導体)」、「ディスプレイ」、「プリント基板」 、 「マイクロマシン/MEMS」などを製造するときに使用されるツールで、パターニングの原版になるものです。 「電子回路」、「ディスプレイ」の形成には、写真技術(フォトリソグラフィ) が利用されており、フォトマスクはそれらを形成する基板にパターンを転写するために使用されます。 フォトマスクは、写真で例えると、「ネガフィルム」の役目に当たり、 「電子回路」などを形成する基板が「印画紙」にあたります。 CPU やメモリなどの電子デバイス (半導体 / 集積回路) トランジスタ、コンデンサなど単機能のディスクリート半導体 CCD/CMDSイメージセンサやLED などの受光、発光素子 マザーボードなどのプリント基板 液晶・OLEDなどの画像表示デバイス 加速度センサーなどのマイクロマシン (MEMS) ハードディスクの
2022/10/05 リンク