ビュッフェの手袋、エレベーターの抗菌シート・・・そろそろ過剰な感染対策をやめていこうッ！（忽那賢志） - エキスパート - Yahoo!ニュース
新型コロナの流行が始まって2年が経とうとしています。 当初、よく分かっていなかったこの感染症も、この2年で多くのことが分かってきました。 新型コロナの感染経路が十分に分かってきた今、不必要な感染対策についても見直す時期に来ているのではないでしょうか。 新型コロナの感染経路は3つ新型コロナの感染経路（Nature Reviews Microbiology volume 19, pages528–545 (2021)） 新型コロナの感染経路は3つです。 ・接触感染：ウイルスで汚染した物、感染した人の手などに触れることで自分の手などにウイルスが付着し、その汚染した手で目や鼻など粘膜に触れる ・飛沫感染：会話などで発生する飛沫を浴びる ・エアロゾル感染：特に換気の悪い屋内では飛沫の飛ぶ距離（1-2M）を超えて感染が起こり得る 基本的にはこの3つの感染経路を意識した感染対策が重要です。 接触感染に対
アングル：コロナで岐路の「現地現物主義」、メーカーはＡＩに活路
アイテム 1 の 3 プリンターメーカーのリコーでは、既にロボットがほとんどの工程で活躍しており、４月以降は技術者が自宅から遠隔監視を行っている。写真は部品を運ぶ自動車。７月１３日、神奈川県厚木にあるリコーインダスリーの工場で撮影（２０２０年 ロイター/Naomi Tajitsu） [1/3] プリンターメーカーのリコーでは、既にロボットがほとんどの工程で活躍しており、４月以降は技術者が自宅から遠隔監視を行っている。写真は部品を運ぶ自動車。７月１３日、神奈川県厚木にあるリコーインダスリーの工場で撮影（２０２０年 ロイター/Naomi Tajitsu） ［東京 ３１日 ロイター］ - 愛知県豊橋市にある武蔵精密工業<7220.T>の自動車部品工場では、ロボットが品質管理のための検査作業の一端を担っている。トヨタ自動車<7203.T>が提唱し、２０世紀の大量生産モデルに革命をもたらしたと賞賛
情報機構：講師コラム
講師コラム：服部 毅 氏 『半導体製造汚染防止・除去のためのクリーン化・洗浄技術の最新動向』 コラムへのご意見、ご感想がありましたら、こちらまでお願いします。 第7回「30周年記念半導体クリーン化・洗浄技術国際会議UCPSS2023が9月開催」（2023/7/7） 国策先端半導体メーカーRapidusの技術指導を請け負ったことで知られるベルギーの先端半導体研究機関imecが30年以上にわたり隔年開催している半導体超クリーン化プロセスや洗浄技術に関する国際会議 UCPSS2023 (https://www.ucpss.org）が来る9月12～14日にベルギーの古都ブルージュで開催されるが、この度、論文採択選考が終わり、プログラムが発表された。 ３日間にわたるUCPSS2023のセッション構成は ・基調講演 ・ナノシートGAA FET形成のカギを握るSiGe選択エッチング ・高アスペクト比微細
なぜTSMCだけEUVプロセスで高い歩留まりを達成できるのか？
TSMCは、EUVリソグラフィ(EUVL)工程で使用されるEUVマスク上に付着したパーティクル(異物微粒子)の除去に、従来の薬液や純水を大量に使うウエット洗浄プロセスから、より環境にやさしい「ドライクリーン技術(Dry-Clean Technique)」をすべての量産ラインに導入することで、EUVLプロセスにおける製造歩留まりの向上を図っていることを明らかにした。 ドライクリーン技術は薬液や純水のかわりに物理力でパーティクルを除去してウェハ表面を清浄化する「ドライクリーニング技術」とも異なり、付着したパーティクルを1粒ずつ組成分析して同定し、発生源を特定してその発生源を排除することにより、マスク上にパーティクルが付着せぬようにする手法である。なお、Dry-Clean Techniqueは、TSMCの独自の呼び方である。 クリーンルーム内でのマスク表面画像観察 (出所:TSMC Webサイト
歩留まり向上技術 装置内におけるナノサイズのパーティクル発生との闘い | 研究・開発 | 東京エレクトロン株式会社
現在の半導体回路の加工サイズは数ナノメートルから数10ナノメートル程度です。半導体製造装置内で、半導体をつくるシリコン基板上にウィルスより小さいナノサイズの塵(以下、パーティクルと呼ぶ)が落ちただけで不良品を発生させ、半導体の良品率を示す「歩留まり」を低下させてしまいます。不良品の原因となる微細なパーティクルが発生を防ぐことは、野球場に数10ミクロンの砂粒一つ落ちていない状態にすることと同じくらい難しいことです(図１)。これまでも半導体製造装置の開発は、ナノサイズのパーティクルとの闘いの連続でした。 このような不良の原因となるパーティクル対策には、空気中の塵や埃が規定値内で管理され、同時に、温度、湿度なども管理されたクリーンルームと呼ばれる正常な空間で半導体を製造することが求められます。しかし、個々の半導体製造装置内で発生するパーティクルについては、クリーンルームで製造するだけでは解決でき
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ウェーハ搬送対応SMIF
TSMC Develops the World’s First Dry-Clean Technique for EUV Mask, Creating an Accumulated NT$2 Billion of Improvement Effect