EUV露光技術のインフラ開発を担うEUVL基盤開発センター(EUVL Infrastructure Development Center:EIDEC)は2013年5月21日、同センターの活動を報告する「EIDEC Symposium 2013」を東京都内で開催した。 EIDECには、国内の半導体メーカーや装置・材料メーカーなど計13社が参加しているほか、海外からも米Intel社、韓国Samsung Electronics社、米SanDisk社、韓国SK Hynix社、台湾TSMC(Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.)が参加している。NEDO(新エネルギー・産業技術総合開発機構)の支援のもと、産業技術総合研究所(AIST)のスーパー・クリーンルームでEUV露光に関する五つのインフラ技術を開発している。(1)マスク・ブランクスの検査技術、(