露光装置とは、写真の技術を応用して、シリコンウエハ上に塗布した感光性樹脂(レジスト)に光を照射することにより回路パタンを形成する装置である。解像度の進展とともに、装置価格が高騰しており、「ArF液浸」と呼ばれる最先端露光装置は1台50億円、次世代のEUV(Extreme Ultra Violet)露光装置は100億円を超えると言われている。 露光装置は、人類が生み出した最も精密で高価なマシンであると言える。東芝の微細加工の責任者である東木達彦部長は、「まさに兵器だ」とすら述べた。半導体の量産工場には、「兵器」のごとき露光装置が数十台並ぶ。この兵器をどのように使うかが、半導体デバイスの性能、品質のみならず、コストにも大きく影響する。 ASMLの装置はスループットと稼働率が高い? ASMLはどのようにしてTSMCやサムスン電子と共進化できる露光装置を開発したのか? 装置メーカーに所属している筆