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インテル、32ナノメートル製造プロセスの開発を完了
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インテル、32ナノメートル製造プロセスの開発を完了
Intelは米国時間12月9日夜、チップ回路を32ナノメートルに縮小する、次世代製造プロセスの開発フェーズ... Intelは米国時間12月9日夜、チップ回路を32ナノメートルに縮小する、次世代製造プロセスの開発フェーズを完了したことを明らかにした。 Intelのプロセッサは現在、45ナノメートルプロセスで製造されている。一般的には、回路の小型化を図ることで、より高速かつ省電力性能の高いプロセッサが完成することになる。 Intelは「この次世代の(トランジスタの)製造プロセスは順調な開発フェーズを経て、(中略)2009年第4四半期中にも稼動する予定である」と発表している。 Intelは、サンフランシスコで来週開催される、IEEEの国際電子デバイス会議(IEDM)にて、32ナノメートルプロセスの技術に関する詳細な情報を提供する方針を明らかにした。 32ナノメートルプロセス技術の開発フェーズの終了は、「Tick-Tock」戦略が順調に進んでいることをも意味している。Tick-Tockでは、年ごとに新たなプ