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ブックマーク / www.loftwork.jp (2)

  • Loftwork Inc. | loftwork Inc.

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  • 森美術館が写真撮影を許可したことについての考察 | ロフトワーク林千晶のブログ【細うで繁盛記】

    2009年7月25日から11月8日まで森美術館で開催される「アイ・ウェイウェイ展-何に因って?」。日の美術館として初めてクリエイティブ・コモンズ・ライセンスを採用し、館内での写真撮影を許可する企画展を実現しました。 私自身、クリエイティブ・コモンズのアドバイザリーとして今回の試みを支援した立場のため、「美術館の中で写真撮影できる」という事実が、訪れた観客にどのように受け止められるか、そしてアート業界やメディアからどのような反応があるか、とても楽しみでもあり不安でもありました。 ただアート業界にとってもクリエイティブ・コモンズにとっても、とても大切な一歩だと認識しており、表面的な「良かった!」というコメントではなく、もう少し踏み込んだ形で自分の考えを整理しようと思います。 まず、私は今回の森美術館が写真撮影を公式に許可したことは素晴らしいことだと思っているし、日だけでなく世界の美術館にお

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