特許庁は、10日、国際知的財産保護協会（AIPPI）、国際弁理士連盟（FICPI）と共に、特許制度調和に関する国際シンポジウムを開催いたしました。本シンポジウムでは、各国・地域の知財庁、ユーザー団体、大学等から講師を招き、グレースピリオドに関する主要な項目を中心に活発な議論がなされ、グレースピリオドを始めとする特許制度を調和する方向で議論を推進すべきという認識が官民で共有されました。 1．背景 三極特許庁（日・米・欧）と、欧州主要国（英、独、仏、丁）の知財庁（いわゆる「テゲルンゼーグループ[1]）は、これまで、特許制度を巡る国際調和の議論を継続してきました。そして、本年4月に開催された会合においては、国毎に制度の差異が大きい4項目（グレースピリオド（＊1）、衝突する出願の取扱い（＊2）、18ヶ月全件公開（＊3）、先使用権（＊4））に関して、各庁が実施したユーザー協議結果を分析した最終統合レ

お知らせ ニュースリリース 2014年度一覧 料金が1/3 に軽減される中小・ベンチャー企業、小規模企業等を対象とした特許審査請求料の軽減措置の申請が1,000 件を突破しました！ 特許庁では、平成26 年4 月から産業競争力強化法で定められた「特許料等の軽減措置」を新たに開始しています。 ７月３日に、この軽減措置において審査請求料の軽減申請が1,000 件を越えました。 今後も、本措置の普及を通じて、中小・ベンチャー企業による国内外の特許出願を促進し、イノベーションの推進に取り組んでまいります。 平成26 年4 月から新たに開始した産業競争力強化法で定められた特許審査請求料の軽減措置（別紙参照）の申請が7 月3 日に1,000 件を越えました。 平成26 年4 月から6 月の中小・ベンチャー企業、小規模企業からの特許出願にかかる審査請求件数は、約1,400 件1で、約６割が当該軽減措置を

中央省庁等改革推進基本法に基づく「実施庁」である特許庁は、毎年度、実施庁が達成すべき目標設定を行う必要があります。この度、平成26 年度の実施庁が達成すべき目標を定めました。 そのポイントは、従来の「FA（First Action）期間」（一次審査通知までの期間）に加えて、「権利化までの期間」を新たな項目に設け、20 か月台前半を目標（平成24 年度は28.1 か月）とするとともに、新たに「審査の質の向上」に関する評価項目の達成度を目標に追加することです。 あわせて、特許審査の質の一層の向上を図るため、「特許審査に関する品質ポリシー」（以下「品質ポリシー」という。）を策定しましたので、公表いたします。

特許庁は、特許審査に関するこの10 年間の長期目標であったFA11（平成25 年度末までに一次審査通知期間（FA:First Action）を11 か月以内とする）を達成しました。 1．経緯 新たな技術を開発し、特許出願を行った我が国企業にとっては、所定の権利期間（出願から原則20 年）を最大限有効に活用するため、特許審査を経た権利化が迅速に行われることが必要です。 このため、平成16 年に決定された「知的財産推進計画2004」（平成16 年5 月27 日知的財産戦略本部決定）において、それまで26 か月かかっていた一次審査通知までの期間（FA:First Action）を10 年後の平成25 年度(2013 年度)末までに11 か月以内(FA11)とする長期目標が掲げられました。 2．FA11 の達成 平成16 年以来、任期付審査官の増員（毎年度98 名×5 年度）や登録調査機関による先

特許庁は、我が国企業等の国内外での模倣被害の実態や対策の実施状況に関する情報を収集・分析した「模倣被害調査報告書」の2013年度版を取りまとめました。 2012年度の1社当たりの平均被害額は1．9億円、模倣被害総額は1,001億円で、 前年度比で減少となりました（※1）。模倣被害率は21．8％で、中国等アジア地域を中心に模倣被害は引き続き深刻な状況が続いています。 なお、複数の権利での被害やインターネット上での被害は増加傾向にあり、被害内容は多様化・複雑化しています。我が国の税関における差止件数も過去最高を記録しています（※2）。この多様化・複雑化する模倣被害に対処するために、模倣被害対策における働きかけ先や働きかけの方法等を多様化していくことが必要になっていると考えられます。 （※1）模倣被害総額はアンケート回答企業のうち模倣被害額について回答があった企業の被害額合計であり、模倣被害額に

本日、産業構造審議会  第5回知的財産分科会（分科会長：野間口 有  三菱電機株式会社相談役・独立行政法人産業技術総合研究所最高顧問）が開催され、報告書がとりまとめられましたので、公表いたします。 【2月27日差し替え】誤記があったため、発表資料「産業構造審議会知的財産分科会「とりまとめ」」を差し替えました。 1．背景・目的 平成15年(2003年)に｢知的財産基本法｣が制定されてから今日に至るまで、政府は、首相を本部長とする｢知的財産戦略本部｣を設置するなどして知財の創造・保護・活用のための体系的な制度の整備に取り組んできました。 この間、企業活動のグローバル化の進展など、知財制度を取り巻く環境は、大きく変化してきています。そのような中、昨年6月には｢日本再興戦略｣｢知的財産政策に関する基本方針｣が閣議決定され、改めて今後の知財政策の取組み課題が明らかにされました。 こうした状況を踏まえ

昨秋の臨時国会で成立した産業競争力強化法で定められた、「特許料等の軽減措置」の詳細が本日決定されました。 中小・ベンチャー企業や小規模企業等が国内出願を行う場合の「審査請求料」と「特許料」について、平均的な内容の出願で、約38万円が約13万円に軽減されます。また、国際出願を行う場合には「調査手数料・送付手数料・予備審査手数料」が約11万円から約3万5千円に軽減されます。 この軽減措置は平成26年4月以降に審査請求等が行われた場合に適用されます（平成30年3月までの時限措置）。本措置によって、中小・ベンチャー企業による国内外の特許出願が促進され、イノベーションが推進されることが期待されます。 1．背景 我が国においては、特許出願総数に占める中小企業・個人による出願の割合は米国の半分以下（日:12％ 米:25％）であるなど、依然として、技術の特許化における「裾野」の広がりは限定的であり、出願・