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東大,アクリル板と水で原子レベルの平坦化を実現
東京大学の研究グループは,アクリル板を用いた革新的な研磨技術を開発した(ニュースリリース)。 ミラ... 東京大学の研究グループは,アクリル板を用いた革新的な研磨技術を開発した(ニュースリリース)。 ミラーや,SiCやGaNの基板では原子レベルの平坦性を実現する研磨技術が求められている。 表面を平坦化するためには,使用する研磨液においてレアアースを含む金属酸化物などの微粒子やさまざまな環境に有害な薬液を用いる必要があるため,より低コストで低環境負荷な研磨技術が求められていた。 研究グループは,アクリルの微粒子によってガラスの加工ができることを発見しており,有機砥粒加工法(OAM:Organic Abrasive Machining)という高精度ミラーのための超精密加工法に発展している。 その後,アクリルの表面が水中では通常研磨で用いられているSiO2やCeO2など微粒子の表面と同様の性質になることがわかってきた。水が存在しないとアクリル微粒子ではガラスを加工することができないが,ガラスを加工で