バス乗降時のバリアフリー化に貢献する正着性向上に関する共同研究成果を発表

2016年12月16日 株式会社ブリヂストンは横浜国立大学（「交通と都市研究室」：中村文彦教授）、公益社団法人日本交通計画協会と、バス停車時に縁石とタイヤを接触させることにより乗降口と停留所の隙間を小さくする正着性向上について共同研究を行っており、今回、新たに「次世代正着縁石・路肩形状」を考案しました。また、縁石と接触するタイヤサイド部に、新たな摩耗対策を施すタイヤ技術（バリアフリー用新コンセプトタイヤ）開発も進めています。 引き続き、「次世代正着縁石」ならびに「バリアフリー用新コンセプトタイヤ」両面の改良を行いながら、お客様ならびに運行事業者様の声を踏まえて技術を完成させ、2020年に向けて実用化を目指していきます。 動画：バス正着性向上 時間：1分33秒 ファイルサイズ：約12.8M 今後の公共交通には、高い利便性、容易なアクセス性及び優れたバリアフリー性がより強く求められるようになる

[TERRAZI]

バスをギリギリまで寄せられる縁石、ブリヂストンが考案。パンクさせられる側のタイヤの改良だけじゃなくて、させる側の縁石を改良するってのがいい。タイヤ屋なのに。

[mongrelP]

ん？縁石の改良か、と思ったら最後に摩耗対策タイヤも開発中と書いてあってなるほど感。