エントリーの編集
![loading...](https://b.st-hatena.com/bdefb8944296a0957e54cebcfefc25c4dcff9f5f/images/v4/public/common/loading@2x.gif)
エントリーの編集は全ユーザーに共通の機能です。
必ずガイドラインを一読の上ご利用ください。
記事へのコメント1件
- 注目コメント
- 新着コメント
注目コメント算出アルゴリズムの一部にLINEヤフー株式会社の「建設的コメント順位付けモデルAPI」を使用しています
![アプリのスクリーンショット](https://b.st-hatena.com/bdefb8944296a0957e54cebcfefc25c4dcff9f5f/images/v4/public/entry/app-screenshot.png)
- バナー広告なし
- ミュート機能あり
- ダークモード搭載
関連記事
RIETI - 模倣費用とイノベーション費用:共通特許権存続期間のもとでの様々な特許政策の分析
このノンテクニカルサマリーは、分析結果を踏まえつつ、政策的含意を中心に大胆に記述したもので、DP・P... このノンテクニカルサマリーは、分析結果を踏まえつつ、政策的含意を中心に大胆に記述したもので、DP・PDPの一部分ではありません。分析内容の詳細はDP・PDP本文をお読みください。また、ここに述べられている見解は執筆者個人の責任で発表するものであり、所属する組織および(独)経済産業研究所としての見解を示すものではありません。 貿易投資プログラム (第三期:2011~2015年度) 「グローバル経済における技術に関する経済分析」プロジェクト 昨今の日本の製造業の不振の一部は近隣アジア諸国の急激な技術水準の向上を受けたことによる厳しい競争が原因と言われている。アジア諸国の技術力の向上の一因としては、日本企業が特許出願した結果、公開された技術情報が流出していることが挙げられている。たとえば、1997年には世界における液晶ディスプレイの生産量で日本企業は世界の8割を超えるシェアを持っていた。しかしな
2013/06/19 リンク