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選択比
(02/19)問題提起 (12/14)MOSトランジスタ電流の式最終版 (12/01)MOSトランジスタ電流の式3 (11/22)アク... (02/19)問題提起 (12/14)MOSトランジスタ電流の式最終版 (12/01)MOSトランジスタ電流の式3 (11/22)アクセス解析 (11/21)MOSトランジスタの電流の式2 (11/19)MOSトランジスタの電流の式1 (10/01)キャパシタのCVカーブ (09/14)閾値電圧 (08/30)直列容量 (08/24)今しばらくお待ちを 今日は久しぶりに朝からえらく重たいなあ。 今回は前回の続きの話で、選択比の話から始めよう。 ドライエッチのEtching Rateというのを決めるのは、選択比というのが大きくものをいっている。前回のエンドポイントの話ところでは、Nitirde膜と酸化膜のEtching Rateの違いイコールNitride膜と酸化膜の選択比がいくつとなる。実際のEtching Rateの決定は、エッチングしたい膜とレジストとの選択比で決まってくる。ドライエッ