ナノインプリントは、ナノメートル単位の非常に微細なパターンが刻まれた「型」を押し付け、対象物に微細なパターンを形成する加工方法です。2023年10月にキヤノンが半導体向けのナノインプリント装置をリリースしたことで、注目が集まっています(同社のリリース参照)。 本記事では、次世代の半導体製造プロセスである「2nmプロセス」にナノインプリント装置が対応できるのかをテーマに、現状のハードルと関連企業の動向を整理します。現在、2nmプロセス開発で主流となっているEUV露光との比較分析に加え、TSMCなど開発をリードする企業の動向も紹介します。半導体微細化の限界に挑む企業の最先端を理解したい方は、ぜひご参照ください。