オランダの半導体製造装置メーカー、ASMLホールディングの最先端機器は極めて高額との認識を、同社最大級の顧客企業である台湾積体電路製造(TSMC)が14日示した。 アムステルダムで開催されたテクノロジーシンポジウムに参加したTSMCのケビン・チャン上級副社長はASMLの高NA(開口数)極端紫外線(EUV)露光装置について、「非常に高い」と指摘し、「高NA・EUVの能力は気に入っているが、販売価格は好ましくない」と述べた。このマシンは1台3億5000万ユーロ(約590億円)。 ASMLは最も高度な半導体を製造するために必要な装置を製造する唯一の企業で、同社の製品に対する需要は業界の健全性を示す指標となっている。 米インテルはすでに高NA・EUV露光装置をASMLに発注。同社は昨年12月下旬、オレゴン州にあるインテル工場向けに最初の1台を出荷した。しかし、半導体の受託生産で世界最大手のTSMC
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