エントリーの編集
![loading...](https://b.st-hatena.com/bdefb8944296a0957e54cebcfefc25c4dcff9f5f/images/v4/public/common/loading@2x.gif)
エントリーの編集は全ユーザーに共通の機能です。
必ずガイドラインを一読の上ご利用ください。
CMOSプロセスで製造できるマイクロLED、Letiが開発
記事へのコメント0件
- 注目コメント
- 新着コメント
このエントリーにコメントしてみましょう。
注目コメント算出アルゴリズムの一部にLINEヤフー株式会社の「建設的コメント順位付けモデルAPI」を使用しています
![アプリのスクリーンショット](https://b.st-hatena.com/bdefb8944296a0957e54cebcfefc25c4dcff9f5f/images/v4/public/entry/app-screenshot.png)
- バナー広告なし
- ミュート機能あり
- ダークモード搭載
関連記事
CMOSプロセスで製造できるマイクロLED、Letiが開発
米国カリフォルニア州サンノゼで開催された「Display Week 2019」(2019年5月14~16日)では、研究機関... 米国カリフォルニア州サンノゼで開催された「Display Week 2019」(2019年5月14~16日)では、研究機関のLetiが、GaN(窒素ガリウム)マイクロLEDディスプレイを、CMOSプロセスで製造する新しい技術について説明した。 米国カリフォルニア州サンノゼで開催された「Display Week 2019」(2019年5月14~16日)では、研究機関のLetiが、GaN(窒素ガリウム)マイクロLEDディスプレイを、CMOSプロセスで製造する新しい技術について説明した。同技術により、トランスファー(LED素子をバックプレーンに実装する)の工程を削減でき、スマートウォッチから大型TVまで、さまざまな大きさのディスプレイを使うアプリケーションに適用できるようになるという。 この方法では、CMOSの駆動回路上に実装したRGBを一体化したマイクロLEDを基本ユニットとし、これをディスプ