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第一原理計算とAI技術を融合、半導体材料のシミュレーションを10万倍以上の速度に
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第一原理計算とAI技術を融合、半導体材料のシミュレーションを10万倍以上の速度に
レゾナックは2024年8月6日、材料開発のためのシミュレーションとして一般的に用いられる計算手法「第一... レゾナックは2024年8月6日、材料開発のためのシミュレーションとして一般的に用いられる計算手法「第一原理計算」と、人工知能(AI)を融合した新しいシミュレーション技術「ニューラルネットワークポテンシャル(NNP)技術」を、CMPスラリーによる半導体回路の研磨メカニズムのシミュレーションに初めて導入し、同メカニズムを解明したと発表した。 NNP技術は、これまで難しかった化学反応のシミュレーションを、第一原理計算と同程度の精度を維持しながら、10万倍以上の速度で実施できる技術だ。同社は、今回の技術により複雑な半導体製造プロセスで起きている材料の挙動を解明し、迅速な新材料の創出につなげる。 第一原理計算で1000年以上かかるものを100時間で 昨今、半導体分野では、技術革新のスピードが加速しており、迅速に新材料を提供することが求められている。この解決策として、シミュレーションにより見当をつけて