キヤノンの御手洗冨士夫会長兼社長兼最高経営責任者(CEO)は10月に発売したナノインプリント技術を搭載した半導体露光装置の製品価格について、極端紫外線(EUV)露光装置と比較してかなり低額に抑えられるとの見方を示した。 御手洗氏は都内の本社での先月のインタビューでナノインプリント装置の特長について、「EUVに比べて全然安い。1桁違う」と述べ、「存在価値が非常にある」とした。具体的な社名の言及はしなかったが、半導体メーカーでは「期待してくれているところがたくさんある」とも述べた。 半導体の微細化に欠かせないEUV装置の供給は、現時点ではオランダのASMLホールディングが独占。ただ同装置は1台200億円程度と高額で、導入企業は限られている。ブルームバーグのデータによると、同社の顧客には台湾積体電路製造(TSMC)や韓国サムスン電子などが含まれる。 一方、ナノインプリント装置はウエハー上のレジス