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物理気相成長 - Wikipedia
この記事は検証可能な参考文献や出典が全く示されていないか、不十分です。出典を追加して記事の信頼性... この記事は検証可能な参考文献や出典が全く示されていないか、不十分です。出典を追加して記事の信頼性向上にご協力ください。(このテンプレートの使い方) 出典検索?: "物理気相成長" – ニュース · 書籍 · スカラー · CiNii · J-STAGE · NDL · dlib.jp · ジャパンサーチ · TWL(2016年10月) 物理気相成長(ぶつりきそうせいちょう)または物理蒸着(英語:physical vapor deposition、略称:PVD)は、物質の表面に薄膜を形成する蒸着法のひとつで、気相中で物質の表面に物理的手法により目的とする物質の薄膜を堆積する方法である。切削工具や各種金型への表面処理や、半導体素子の製造工程に於て一般的に使用される。 代表的なPVD手法[編集] 蒸着 抵抗加熱蒸着 電子ビーム蒸着 分子線エピタキシー法 イオンプレーティング(イオンめっき) イオ