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シリコン系素材をナノ加工、物材機構がフォトニック結晶を作製した意義 ニュースイッチ by 日刊工業新聞社
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シリコン系素材をナノ加工、物材機構がフォトニック結晶を作製した意義 ニュースイッチ by 日刊工業新聞社
物質・材料研究機構の迫田和彰特別研究員らの研究チームは、汎用のシリコン系素材をナノメートル(ナノ... 物質・材料研究機構の迫田和彰特別研究員らの研究チームは、汎用のシリコン系素材をナノメートル(ナノは10億分の1)寸法で加工し、トポロジカル(位相幾何学的)なフォトニック結晶を作製した。シリコン製の設計自由度が高い光回路として、半導体レーザーや光記録、量子ビット間の情報伝達などへの応用が見込める。 日本物理学会発行の英文誌JPSJに掲載された。 迫田研究員らは有限要素法による試料設計に基づき、電子線リソグラフィーで厚み0・4マイクロメートル(マイクロは100万分の1)のシリコン薄膜をナノ加工してフォトニック結晶を作製した。 トポロジカルな性質の異なる2種類のフォトニック結晶の境界上で一方通行の光回路(光導波路)を作り、独自開発の高分解能の赤外反射測定装置でその特性を検証した。 このような2種類のフォトニック結晶を貼り合わせると、その境界上では右円偏光の光の波(電磁波)は必ず右方向へ進み、左円