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【ISSCC 2009レポート】Intel、Nehalem-EXとDunningtonの技術詳細を発表
カンファレンス会期：2月9日～11日(現地時間) 会場：米国カリフォルニア州サンフランシスコ Marriott H... カンファレンス会期：2月9日～11日(現地時間) 会場：米国カリフォルニア州サンフランシスコ Marriott Hotel 半導体回路技術に関する世界最大の国際会議「ISSCC 2009」のメインイベントであるカンファレンスが、米国時間2月9日に始まった。 9日の午前はカンファレンスの開催に先立ち「Formal Opening of the Conference」と題した15分ほどのセッションがあり、ISSCC 2009の開催規模を実行委員会が紹介した。 ISSCCの参加者は非常に多く、最近では3,000名を超える。投稿論文数は582件、採択論文(発表論文)数は203件で、採択率は34.9%である。投稿論文の数はここ3年ほど(2006年～2008年)は600件を超えていたので、今回はやや少ない。採択率は前年(36.1%)とほぼ同じである。相変わらずの狭き門と言える。 採択論文を地域別にみる
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2009/02/10 リンク