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» ブログ » インサイダーズ » 服部毅のエンジニア論点 ムーアの法則を終焉させず1nm以下めざす本気のimec、撤退した日本勢 2020年12月 1日 ｜服部毅のエンジニア論点 ベルギーの半導体・ナノテク研究機関imec CEO兼プレジデントのLuc Van den hove氏は、同社と蘭ASMLが密接に協業して次世代高解像度リソグラフィ技術である高NA EUV（極端紫外線）リソグラフィ技術を実用化することで、ムーアの法則を終焉させることなく、微細化を1nm以降も継続させると宣言した（図1）。 これは、11月18日にバーチャルオンラインで開催されたimec主催の 年次研究紹介イベントimec Technology Forum (ITF) Japan2020の冒頭、同氏が研究の全体像を紹介する基調講演の中で述べたもの。 図1 「ムーアの法則は終焉しない」imec Technology F

[kiyo_hiko]

"メーカートップは「技術的には優れているが、筋が悪く実用化するわけがなく、まるでコンコルドのようだ」といってEUV露光装置も開発段階で撤退…いつの間にかシェア1桁へ" …うーん悲しい