産総研：光照射によるめっき薄膜の密着性向上法とパターニング法の開発

プラスチック基板上のめっき膜にパルス光を照射するだけで密着性が向上 マイクロ秒単位の短時間で大面積（A4サイズ）の処理が可能 フォトマスク上から光照射することで、めっきした金属薄膜のパターニングが可能 独立行政法人 産業技術総合研究所【理事長 野間口 有】（以下「産総研」という）ナノシステム研究部門【研究部門長 山口 智彦】ナノシステム計測グループ 堀内 伸 上級主任研究員らは、無電解めっきによりプラスチック基材上に形成した金属薄膜に高強度のパルス光を瞬間的に照射すると、基材にダメージを与えずにめっき膜の密着性を向上できることを見いだした。また、この技術によってめっき膜のパターニングも可能である。 無電解めっきは、プラスチックなどの絶縁材料や複雑な形状の部品に金属薄膜を成膜する方法として、電子部品や自動車部品など広く産業界で用いられている。一般に、金属膜の作製では、基材との密着性を得るため