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日米で同時に特許取得可能に 情報共有、取得期間も短縮:朝日新聞デジタル
特許庁と米国特許商標庁は21日、特許の同時申請を8月から受け付けて、審査のための情報を共有するこ... 特許庁と米国特許商標庁は21日、特許の同時申請を8月から受け付けて、審査のための情報を共有することで合意した。審査期間を短くするほか、日米で同時に特許がとれるようにする。企業にとっては日米での商品同時発売などがしやすくなりそうだ。 特許庁によると、特許当局同士が審査段階で情報を共有する取り組みは、世界初という。 発表によると、同時申請を受けた発明は両当局が優先的に審査を始め、判断材料となる関連文献や研究論文の調査、同じような特許の有無などの調査情報を共有する。審査そのものは別々にするが、「特許性があるかどうか」の判断も事前に交換する。審査結果は同時に通知するという。 同時申請が受理されれば、これ… こちらは有料会員限定記事です。有料会員になると続きをお読みいただけます。 こちらは有料会員限定記事です。有料会員になると続きをお読みいただけます。 こちらは有料会員限定記事です。有料会員になると
2015/05/22 リンク