キヤノンが半導体露光装置を再加速、AIチップ実装独占しArFも諦めずキヤノンの半導体露光装置事業がかつての勢いを取り戻している。ArF液浸露光装置やEUV（極端紫外線）露光装置を事業化できず、オランダASMLやニコンとの開発競争に敗れた同社。ところがここにきて、生成AI（人工知能）を支える先端パッケージング向けの市場を総取りしている。ナノインプリントリソグラフィー装置を発売し、微細化の最先端にも返り咲く（図1）。フルラインナップで王者ASMLに対抗しようと、かつて撤退したArFドライ露光装置も開発を続け再参入の機会をうかがう。 半導体露光装置の金額ベースの市場シェアは、経済産業省の資料によれば足元でASMLが9割強を占める。同社は台湾積体電路製造（TSMC）や韓国Samsung Electronics（サムスン電子）、米Intel（インテル）などの最先端工場に欠かせないEUV露光装置（波長13.5nm）市場を独占。露光波長別で1つ前の世代に当たるArF液浸
