ベルギーの独立系先端半導体研究機関であるimecは、2022年5月17~18日(欧州時間)にアントワープで開催した年次技術発表イベント「Future Summits 2022」(6月1日時点では、有料オンデマンド放映中)で、14年後の2036年に2Å(オングストローム)に至る半導体プロセスの微細化ロードマップを発表した(図1)。 imecは、(1)蘭ASMLと共同開発を進める新しい半導体露光技術(高NA EUVリソグラフィ)、(2)革新的な半導体デバイス構造/構成材料、(3)相互配線層構造などを組み合わせることで、微細化の限界を突破し、「ムーアの法則は2036年まで継続できる」との見通しを示した。これらの要素技術の極めて初歩的な試作検討を経て技術開発のめどが立ったため、ロードマップを1nm(10Å)を超える段階へと更新したようである。 図1 imecの新しいロジックデバイスロードマップ。上