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![GE、シーメンスVS日立製作所](https://cdn-ak-scissors.b.st-hatena.com/image/square/641fbe9e58a44bea1cf77e59975947e00c18f27d/height=288;version=1;width=512/https%3A%2F%2Ftk.ismcdn.jp%2Fmwimgs%2F8%2F8%2F1200w%2Fimg_884932b5eace6e1eddf66a69265ac39a49904.jpg)
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1999年12月にNECと日立製作所のDRAM合弁会社エルピーダメモリ(当時はNEC日立メモリ)ができたときのことである(大変古い話で恐縮ですが)。私は、2000年2月にNEC相模原内のエルピーダ・プロセス開発センターに出向して、同様にNECから出向してきた技術者と一緒にDRAMのプロセス開発を行った。 そのとき、会社が違うと、仕事のやり方がかくも違うものなのかと驚いた。DRAMのプロセスフローは、500工程以上になるが、その各工程で使用する装置が違うとか、そのプロセスの毛色が違うとか、そういったことではない(もちろん、それも違うのではあるが)。プロセス開発の方針と言うか、哲学がまるで違うのである。 簡単に言えば(よく言えば)、NECは「均一性第一主義」であり、日立は「新技術優先主義」であった。悪く言えば、NECは「病的なまでの潔癖完璧主義」であり、日立は「新技術オタクの一点突破主義」であ
日立製作所は、海外の研究開発体制を強化する(ニュースリリース)。海外の研究開発人員を現在の280人から2015年度までに約1.4倍の400人に増やす。現地の人材を積極的にリーダーに登用し、世界の各市場に密着した研究開発を推進する。なお、日立グループの国内の研究開発人員は現在、5000人程度。 2013年6月には、ブラジルに新たな研究拠点を開設する。日立は現在、日本、米国、欧州、中国、アジア、インドの6地域に研究拠点を設置しており、新設する「ブラジル研究所」は7つ目となる。建設機械や放送機器といった、現地で積極的に事業を展開している分野に軸足を置きながら、今後の需要が見込める鉄道分野などの研究開発にも注力していく方針だ。 また、各地域の研究拠点に設ける研究室を充実させる。2012年10月には英国に「欧州鉄道研究開発センタ」を、2013年4月には中国に「日立中国材料技術創新センタ」を開設したが
日立製作所は9月24日、京都大学工学部(三浦清貴研究室)と共同で、石英ガラスを使ってデジタルデータを記録・再生可能な新技術を開発したと発表した。レーザーで石英ガラス内部に多層の記録層を形成し、CD並みの容量を数億年以上の長期間にわたって保存できる可能性があるという。文化遺産や公文書、個人が残したいデータなどの保存用媒体として実用化を目指す。 石英ガラス内部にフェムト秒パルスレーザー(数兆~数百兆分の1秒にまで短パルス化したレーザー)を照射してドットを形成。ドットを1、ドットがない部分を0としてデジタルデータを記録する。レーザー出力や形成するドットの間隔、ドットの深さ方向の間隔を最適化して多層記録技術を開発。4層の記録層を作成し、CD並みの容量を保存できるようにし、記録密度はCD(35Mバイト/平方インチ)を上回る40Mバイト/平方インチを実現したという。一度に100個のドットを記録する技術
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