米Intelは5月22日、45ナノメートル(nm)プロセスによるHigh-k(高誘電率)金属ゲート使用のプロセッサファミリーすべてから鉛を排除、以降のプロセッサにも一切使用しないとの計画を明らかにした。45nmプロセスのHigh-kファミリーには、次世代Intel Core 2 Duo、Core 2 Quad、Xeonプロセッサが含まれる。Intelは45nm High-k製造を今年下半期に開始する予定。 鉛はさまざまな微細電子部品のパッケージや、プロセッサをパッケージに接続する部分に使用されている。Intelは45nm High-k世代のプロセッサおよびパッケージから一切の鉛を排除し、2008年には65nmプロセスのチップセットでも鉛の使用を中止する予定。 これまで鉛は、多くの電気製品に使用されてきたが、人体と環境への悪影響が指摘されている。しかし鉛と同程度の性能と信頼性を持つ代替物質を
![Intel、「100%鉛フリー」プロセッサ宣言](https://cdn-ak-scissors.b.st-hatena.com/image/square/a8896f8ff3489bbbcbbc8cfd0206b3ad4067f64e/height=288;version=1;width=512/https%3A%2F%2Fimage.itmedia.co.jp%2Fimages%2Flogo%2F1200x630_500x500_news.gif)