どうして日本は６年間に６人の総理を取り替えたのか？
今回『チェンジはどこへ消えたか オーラをなくしたオバマの試練』という本を出版しました。2008年には「チェンジ」であるとか「イエス・ウィ・キャン」といったメッセージで全米を席巻し、2009年に就任すると「核廃絶のプラハ演説」や「カイロでのイスラムとの和解演説」などを評価されてノーベル平和賞を受賞したオバマですが、結局は１期目の４年間では「チェンジ」はできなかったのです。 その「結果」は世論にある種の落胆を感じさせました。ですが、それでもオバマは再選されたわけで、その理由を探る中から「向こう４年間」のアメリカの進路を読者の皆さまとご一緒に考えていきたい、それがこの本の主旨です。 それにしても、アメリカの失業率は辛うじて８％を切ったばかりで、景気の戻りには強さは全くないわけです。また若者の雇用に関しては依然として状況は厳しく、この本の中でも取り上げましたが「ウォール街占拠デモ」というのは「深層
非力な人のためのパワー半導体入門 インダクタンス負荷の回路でスイッチをいじる(その8)
カテゴリごとに表示すると、古い記事から新しい記事へ、順を追って閲覧できます。図・数式をクリックすると拡大表示されます。 この続き。 UISでMOSFETがターンオフするとき、 内部でアバランシェが発生し、自己クランプしながら、 厳しい条件に置かれながら電流を止めることを説明した。 回路図にトレンチゲート型パワーMOSFETの断面をはめ込んで考えてみる。 アバランシェで発生した電子は、上方向に流れ、 N+半導体とドレインメタルを通過し、インダクタンスを経由して電源のプラス側に至る。 電子は移動度が高く、電圧降下が小さいので、あまり問題を起こさない。 アバランシェで発生したホールは、下方向に流れ、 P++型半導体を通過し、ソースメタルを通過し、電源のグランドに回収される。 このホールの流れは、しばしば問題を起こす。 Nチャネル型パワーMOSFETのソース付近には、 寄生素子としてNPNバイポー
N+の+はどういう意味（半導体、トランジスタ関連です） - OKWAVE
実用的には、N+ P+ n- p- の４つを覚えておけばよいと思います。 （なぜか、＋／－と大文字／小文字が連動していますが、習慣がそんなもんだと思ってください。） N+ は、Ｎ型不純物濃度の高いＮ型 →Ｎ型ＭＯＳＦＥＴのソース・ドレイン P+ は、Ｐ型不純物濃度の高いＰ型 →Ｐ型ＭＯＳＦＥＴのソース・ドレイン n- は、Ｎ型不純物濃度の薄いＮ型 →Ｐ型ＭＯＳＦＥＴのＮウェル p- は、Ｐ型不純物濃度の薄いＰ型 →Ｎ型ＭＯＳＦＥＴのＰウェル 濃度の値は、おおむね、 N+,P+ が、面積１cm^2当たり1E15程度の原子個数以上の不純物（ヒ素／ホウ素）を0.1μｍ～１μｍ程度の薄さの中に押し込めたもの、 n-,p- が、面積１cm^2当たり1E14程度の原子個数以下の不純物（リンかヒ素／ホウ素）を１μｍ程度以上の厚さに拡散させたもの です。 濃度が高い・薄いには、物理的な意味もあるのですが、
FETの電極としてアルミが使われることがあるようなのですが、このときシ - OKWAVE
使われることがあるどころか、少し前まではSi LSIの電極や配線にはアルミを使うのが当たり前でした。 金などの重い金属はSiに対して深い準位を作るので抵抗率が上がりますが、アルミは浅い準位しか作らず、導電率が高く、金などよりも安価だからです。 もちろん、Si内に拡散すればp型となります。 だからプロセス上は、余計な部分にAlが拡散しないよう、ことのほか気を使います。 (基板ばかりでなく装置内にもアルミのイオンや微粒子を付着させない、配線の下は絶縁膜を厚くして、アルミ蒸着後は高温処理をしない、など。) 尚、AlとSiを接触させただけでは、仕事関数の差によりショットキー接合となりますが、逆にオーミック接合としたいときは、熱処理によりAlを拡散させ合金化して、ショットキー障壁を崩します。 p型層に対しては、よりp型ドーパント濃度が高くなるので好都合です。 n型層に対しては、Siの場合どうするか知
なぜSiプロセスではポリシリコンゲートを用いるのか - OKWAVE
Siプロセスに関しての質問です。 現在のSi集積回路では、ゲートにポリシリコンを利用して いるようですが、将来的にはメタルゲートが有望のようです。 そこで質問なのですが、なぜポリシリコンをゲートに用いるのでしょうか？ 半導体の教科書でＭＩＳ構造を勉強するときには、当然ゲートはメタルです。 なぜSiプロセスでは、ポリシリコンが登場しているのでしょう。 プロセスが大幅に簡単になる、コスト削減、といった理由でしょうか？ ご教授いただけると幸いです。 どうぞ宜しくお願いします。
溶解と分散の違い
＃２です。 化学辞典（東京化学同人）で「分散」を引くと「ある物質系が他の媒質中に細粒として浮遊すること。・・・物質の細分化の程度に応じていろいろな状態が考えられる。」とあります。 別に「分散系」という項目があります。サイズによって、祖粒子分散系（１μｍ以上）、コロイド分散系（１μｍ～１ｎｍ）、分子分散系（１ｎｍ以下）の３つに分けています。 この定義によれば分散は一般的な概念で溶解はその中にはいると考えてもいいものだと思います。日常的に考えても「分散」は散らばって存在するということですからイメージは合います。 結局、「溶解とは何か」ということが基本にあるはずです。サイズという操作的な定義では意味がハッキリしません。コロイド溶液も「溶けているとはどんなことか」がハッキリしない限り単なる操作的な定義になってしまいます。 コロイド溶液や懸濁液に対して「真溶液」という言葉が使われます。この言葉の中に
“ in situ ” とはどういう意味ですか
「その場所で」というラテン語です（斜体で書くのが一般的です）。 in vitroとかin vivoと同じように、日本語のなかでも訳さないでそのまま「イン シチュ」あるいは「イン サイチュ」というのが普通でそのほうがとおりがいいです。うまい訳語がないですし。 生物学では、in situ hybridizationでおなじみです。この意味は、染色体DNAやRNAを抽出、精製したものを試験管内、あるいはメンブレンにブロットしたものに対してプローブをhybridizationさせるのに対比して、組織切片や組織のwhole mount標本に対してプローブをhybridizationすることをさします。 これによって、染色体上で特定のDNA配列を検出したり、組織標本上で特定のRNAを発現する細胞を検出したりできます。生体内の局在を保った状態でターゲットを検出するということです。 化学反応、酵素反応など
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光学顕微鏡 Microscope(JP)
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