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まず、ASMLのコア技術である「露光技術」について簡単に説明します。 半導体は小さなチップに非常に細かい配線が描かれており、その配線パターンを「光照射」によってつくるのが「露光」プロセスです。光照射によって変化する材料(レジスト)の膜をウェハー上につくった状態で露光した後、光が当たった部分のレジストを除去するエッチングと呼ばれる工程にかけることで、パターンが形成されます。 (逆に、光が当たった部分が残るタイプもあり、ネガ型のレジストと呼ばれます) 光を照射するパターンを規定するのが「マスク(フォトマスク)」と呼ばれる板で、ここに描かれた配線がウェハー上に投影されます。微細なマスクを透過し、細かいパターンをつくるため、照射する光はなるべく「ブレ」が少ない必要があり、具体的には「光の波長が短いこと」が求められます。 物理学的な細かい説明は省きますが、波長の短い光源を使ったシステムを追求した結果
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