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ニュース一覧 出展情報 ICSCRM 2024 CONFERENCE 2024年9月29日~10月4日 Raleigh Convention Center, Raleigh, NC, U.S.A.
シリコンウエハ上に様々な素子を形成させるため、フォトマスクを取りかえながら、3~8の工程を数十回くり返します。 ステッパーとよばれる露光装置で、シリコンウエハとフォトマスクの位置をあわせ、フォトマスク上の電子回路パターンを1/4または1/5に縮小して、シリコンウエハ上にICをひとつずつ投影して露光します。この動作をシリコンウエハ上で繰り返し行います。
ICの製造における、超微細加工の要と言える、フォトリソグラフィ。 そこには、ステッパーの技術が大きく貢献しています。 前回の“ICはどのようにしてつくられるか”では、IC製造の大まかな工程をご紹介いたしました。今回はその工程の中で特に素子の集積に必要な微細加工の中核となる“フォトリソグラフィ”についてお話します。 “フォトリソグラフィ(photolithography)”とは「光を用いた写真蝕刻技術」のこと。英文からもわかるように、写真を意味する“photo”と、(石版)印刷を意味する“lithography”に由来しています。つまりフォトリソグラフィとは写真技術を応用した(石版)印刷ということになります。もう少し詳しく説明すると、石英(ガラス)板の表面にクロム(Cr)でICの回路パターンを描いたレチクル(もしくはフォトマスク)と呼ばれるものに光を当て、レンズによってこのパターンを1/
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