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ウエハ表面は親水性でフォトレジストとの密着性が悪いため、脱水ベーク（デハイドレーションベーク）及びＨＭＤＳ（密着性向上塗布剤） 処理を行い、ウエハ表面を疎水性にしてレジストとの密着をよくします。密着性向上処理の後、ウエハを常温に戻してからレジスト塗布 が行われます。特に、ポジ型フォトレジストはウエハとの密着が悪いため、密着性向上処理が行われます。 ＨＭＤＳ処理 ＨＭＤＳ（ヘキサメチルジンラザン）は無色透明な液体で、ウエハとレジストの密着性を良くするために使用される。 ＨＭＤＳは水分と反応し、アンモニアが発生する。 ウエハとレジストの密着性を向上させるため、ＨＭＤＳでウエハ表面を親水性から疎水性に変える。 ウエハはＨＭＤＳ処理で疎水性になっています。一般的にシンナーを塗布・乾燥させてから塗布が行われます。レジストの厚さは 数１０ｎｍ〜数１０００ｎｍで、塗布に使用される約９０％